继续前进!中科院首创2纳米芯片关键技术,还要依赖光刻机吗?

发布时间:2020-07-20 17:27:36

芯片是当前中国技术领域的热门话题。在美国的一再阻挠以及中国企业的团结努力下,中国芯片技术的发展可谓一波三折,时而令人担忧,时而令人振奋。

那么现在中国芯片技术到底发展到什么程度的消息说中国科学院第一次做了2纳米芯片的核心技术,这项技术在生产过程中是否依赖先进的高级光刻机,中国芯片是否以此来接电,今天我们要为大家点亮。

中国的半导体发展与几家大企业息息相关。首先是此次半导体危机的主角,也是韩国首屈一指的半导体开发企业华为。

接下来就是在关键时刻挺身而出,取代TIZE成为华为最大的芯片供应商的中情局国际。其中芯片的生产是当今许多人最关心的领域。这使得CIA国际成为人们的热门话题。

目前中国内核在国际上最成熟的是14纳米芯片的制造工艺,这是目前华为企业大量需求的芯片,但国际上上线检测器等芯片巨头已经开始向3纳米甚至2纳米的芯片进军。

中央国际曾试图生产7纳米芯片,但由于缺乏尖端光刻胶,无法批量生产,因此短期内遭遇了增长瓶颈。

在这个关键时刻,中国科学院用基于碳的芯片取代了基于硅的芯片,并由此实现了对国产芯片的超越。因为受技术限制,硅基芯片的发展最高只能到达2纳米芯片领域。碳基芯片可以在此基础上继续前进。

另外,经过初步测试,基于碳的芯片性能甚至比基于硅的芯片更优秀的发现,极大地鼓舞了我国芯片专家。最关键的是,碳基芯片的生产不需要经过光刻这个阶段,自然不再受先进光刻机的限制。

但是碳基芯片的量产和大量使用,目前在我国还只是初步设想;还没有实现,而中国决不会放弃基于硅芯片的研究,只是这一新方向的出现,为我国芯片的发展争取更多的时间和更大的空间。

好,今天就为大家介绍到这里。我们下次再见!